上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开

上海微电子装备（集团）股份有限公司今日公开了其最新的光刻机相关专利。据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。

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